C-43A型光刻机 9英寸 精密光刻机

C-43A型光刻机 9英寸 精密光刻机
 

C-43A型光刻机9英寸精密光刻机是一款高精度的光刻设备，适用于多种应用领域，包括中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路和电力电子器件的研制和生产。这款设备具备特殊的找平机构，使其不仅适用于各种常见材料如硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片的曝光，还能处理非圆形基片和小型基片的曝光需求。

以下是C-43A型光刻机9英寸精密光刻机的主要技术特点：

1. 承片台： 设备配置了一件承片台，其具体尺寸可以根据用户的需求进行定制，以适应不同的工作场景。

2. 曝光头： 该光刻机采用高均匀性多点光源曝光头，确保出射光斑小于230毫米。它搭载了350W高压直流汞灯，使光的不均匀性在直径230毫米的范围内低于8%。这有助于实现在真空密封条件下的曝光。光的强度可以通过X、Y、Z轴进行精确调节，而曝光时间则可以通过0.1秒到999.9秒的时间继电器进行设定。

3. 汞灯位置调节： 曝光头的汞灯位置可以通过精密的X、Y、Z轴调节装置进行微调，X轴调节量为5毫米，而Y轴可以在-5毫米到+5毫米之间调节。这有助于确保光斑的准确位置。

4. 冷却装置： 设备配备了风扇冷却装置，有助于保持设备的稳定性和性能，特别是在长时间操作时。

5. 分辨率： 该光刻机具备2微米的分辨率，适用于高精度的曝光需求。

6. 真空吸片功能： 具备真空吸附功能，可以在不同密封度下实现硬接触曝光（密封真空-0.05Mpa）、软接触曝光（密封真空在-0.05Mpa到-0.02Mpa之间）和微力接触曝光（密封真空>-0.02Mpa）。这提供了更大的灵活性，以满足不同曝光需求。

C-43A型光刻机9英寸精密光刻机是一款高性能的精密光刻设备，适用于多种应用领域，并具备多项先进技术，以满足不同用户的曝光和加工需求。它的灵活性、精度和可调性使其成为科研单位和企业的理想选择。